NANOSCRIBE推出種用于微光學的雙光子3D打印機
時間：2019-06-25 10:04 來源：中國3D打印網 作者：中國3D打印網 閱讀：次
中國3D打印網6月25日訊，Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器Quantum X.最新系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。
根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSO Michael Thiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。 Quantum X采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的最前沿工作。“
雙光子Quantum X機器。圖片：Nanoscribe。
納米3D打印
Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史最悠久，規模最大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度最高。
Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了廣泛的應用，并在哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。最近，據報道，Nanoscribe還加入了MiLiQuant項目，并將利用其在光子技術方面的專業知識將量子技術推向工業水平。除雙光子機器外，Nanoscribe還生產負性樹脂，稱為IP光樹脂。
Nanoscribe提供的一系列納米級樣品。圖像通過Nanoscribe。
3D打印衍射光學
Quantum X系統是在慕尼黑2019年的LASER光子世界（A3.325展位）上推出的，專門用于制造衍射光學元件（DOE）。這些微型光學器件用于材料的激光加工領域，因為DOE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。微光學還用于激光雷達掃描和基于激光的醫學治療。制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過程，其可能需要多達十二個步驟。但是，使用Quantum X機器，DOE可以直接從CAD直接打印。Quantum X將是微光學，小批量生產和研發的快速原型設計的理想解決方案。
在Quantum X機器上打印的微透鏡陣列3D的SME圖像。圖像通過Nanoscribe。
技術規格
印刷技術雙光子灰度光刻（2GL）
最小XY尺寸160 - 200 nm（取決于使用的光致抗蝕劑）
XY分辨率400-500 nm（取決于所用的光敏素）
最佳垂直步長10 nm
掃描速度≤250mm / s
根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSO Michael Thiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。 Quantum X采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的最前沿工作。“
雙光子Quantum X機器。圖片：Nanoscribe。
納米3D打印
Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史最悠久，規模最大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度最高。
Nanoscribe的Photonic Professional GT在研究中得到了廣泛的應用，并在哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學和慶應義塾大學使用。最近，據報道，Nanoscribe還加入了MiLiQuant項目，并將利用其在光子技術方面的專業知識將量子技術推向工業水平。除雙光子機器外，Nanoscribe還生產負性樹脂，稱為IP光樹脂。
Nanoscribe提供的一系列納米級樣品。圖像通過Nanoscribe。
3D打印衍射光學
Quantum X系統是在慕尼黑2019年的LASER光子世界（A3.325展位）上推出的，專門用于制造衍射光學元件（DOE）。這些微型光學器件用于材料的激光加工領域，因為DOE可以精確地控制激光的路徑和“形狀”。微光學還用于激光雷達掃描和基于激光的醫學治療。制造DOE的最常見方法之一是基于集成電路的制造過程，其可能需要多達十二個步驟。但是，使用Quantum X機器，DOE可以直接從CAD直接打印。Quantum X將是微光學，小批量生產和研發的快速原型設計的理想解決方案。
在Quantum X機器上打印的微透鏡陣列3D的SME圖像。圖像通過Nanoscribe。
技術規格
印刷技術雙光子灰度光刻（2GL）
最小XY尺寸160 - 200 nm（取決于使用的光致抗蝕劑）
XY分辨率400-500 nm（取決于所用的光敏素）
最佳垂直步長10 nm
掃描速度≤250mm / s
面積印刷速度為3mm2/ h，適用于衍射光學元件
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