弗吉尼亞理工研究人員為600°Kapton聚酰亞胺開發SL 3D打印工藝
目前，用于聚合物3D打印的一些最理想的材料是PAEK系列聚合物，例如PEEK，PEKK或PEI(ULTEM)，它們具有約400°的耐熱性，并且可以通過激光燒結和/或長絲擠出3D打印。弗吉尼亞理工大學高分子創新研究所的研究人員設計了一種使用掩模投影立體光刻技術進行3D打印的方法，PMDA-ODA(Kapton)是聚酰亞胺，其熱穩定性高達600℃。
高性能全芳族不溶性工程熱塑性聚酰亞胺，如均苯四甲酸二酐和4,4'-氧二苯胺(PMDA-ODA)(Kapton)，具有出色的熱穩定性(高達≈600°C)以及優異的力學性能如楊氏模量超過2GPa。
全芳族分子結構決定了它們的耐熱性，常規技術的加工根本無法達到。之前有報道描述了一種能量密集型燒結技術，可以作為處理有限分辨率和部分保真度的聚酰亞胺的替代技術。
本研究展示了使用掩模投影立體光刻技術進行的前所未有的3D打印PMDA-ODA，以及高分辨率3D結構的制備，而不犧牲散裝材料性能。 含有光可交聯丙烯酸酯基團的可溶性前體聚合物的合成使得能夠進行光誘導的化學交聯以在凝膠狀態下進行空間控制。
弗吉尼亞理工研究中心，阿靈頓，外部VTRC大樓
打印后熱處理將交聯的前體聚合物轉化為PMDA-ODA。尺寸收縮是各向同性的，后處理保持幾何完整性。此外，大面積掩模投影掃描立體光刻證明了3D結構的可擴展性。這些獨特的高性能3D結構在從水過濾和氣體分離到汽車和航空航天技術領域都具有潛力。
弗吉尼亞理工大學高分子創新研究所(MII)是一個跨學科的小組，致力于弗吉尼亞理工大學現有高排名的大分子科學和工程項目的發展和發展。我們致力于營造一個充滿活力的環境，積極推動高素質學生的招聘和教育;積極發起基層和應用層面的及時研究;大力開展與行業和政府機構的溝通活動，繼續教育和經濟增長。
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